Equipos

El Plasma Prep III es la nueva generación de la unidad de radiofrecuencia Plasma Prep II. Con su diseño compacto y fácil de usar, la nueva generación emplea un diseño de estado sólido para entregar el mismo rendimiento del sistema de 100 W. Además, el sistema permite trabajar entre 1 a 100 W con gran estabilidad y facilidad de uso. Permite limpiar/desgastar un material depositado.

La mufla de atmósfera controlada modelo GSL-1100X de MTI es un horno de tubo de cuarzo pequeño diseñado para calentar muestras pequeñas hasta los 1100 ºC. El controlador de temperatura puede programar hasta 30 segmentos de calentamiento, estabilidad y engfriamiento. El horno puede configurarse en posiciones tanto verticales como horizontales para satisfacer diversas aplicaciones. Además, cuenta con una línea para el ingreso de gases y una válvula para controlar el flujo de gas.